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蒸發鍍膜技術是一種廣泛應用于材料科學和工業生產中的表面處理技術。它通過物質的蒸發和沉積過程，在基材表面形成薄膜，從而改變或改善材料的物理、化學和光學性質。本文將詳細探討蒸發鍍膜設備的工作原理、主要組成部分以及其在各個領域的應用。一、工作原理蒸發鍍膜是利用熱能或其他形式的能量將固態材料加熱至蒸發狀態，使其轉化為氣態，再在冷卻的基材表面凝結，形成薄膜的過程。該過程一般可以分為以下幾個步驟：1、材料加熱：在蒸發鍍膜設備中，待鍍材料(通常為金屬或合金)被加熱到其熔點以上，從而發生蒸發...

在現代制造業中，鍍膜技術作為一種重要的表面處理方法，被廣泛應用于電子、光學、汽車、航空航天等多個領域。隨著科技的發展和市場需求的不斷變化，多功能鍍膜設備逐漸成為提升生產效率的重要工具。一、工作原理多功能鍍膜設備是指集成了多種鍍膜技術于一體的設備，能夠實現不同種類的涂層沉積。通常采用物理氣相沉積(PVD)和化學氣相沉積(CVD)等技術。其工作原理能夠總結為以下幾個方面：1、氣相沉積：無論是PVD還是CVD，鍍膜過程均是在真空或低壓環境下進行的，通過將目標材料轉變為氣態，然后再沉...

雷博科儀熱烈祝賀武漢大學柯維俊&方國家教授團隊使用我司多款薄膜制備產品在鈣鈦礦太陽能電池領域取得重要突破科研同款在本次研究中，武漢大學柯維俊&方國家教授團隊使用了我司生產的AC200-SE勻膠機.pdf、MS450鍍膜機.pdf、PF200-H鈣鈦礦專用涂膜機.pdf、PT13M-SE等離子清洗機.pdf。研究背景全鈣鈦礦疊層太陽能電池（TSCs）雖具備優秀性能，但小面積與大面積（1cm2）器件間的效率差距嚴重阻礙其商業化進程。研究亮點晶體修飾劑創新：吡拉西坦通過雙重作用機制...

傳統設備在高速旋轉涂布時，容易出現膜厚不均、熱烘溫度波動大等問題。雷博科儀勻膠機腔體采用特殊設計，在納米壓印工藝上能夠保持優異的均勻性：A.勻膠均勻性：8寸晶圓，BKM數據可達±1.1%。4寸晶圓BKM數據：片內±0.49%，片間±0.55%。6寸晶圓BKM數據：片內±0.76%，片間±0.91%。8寸晶圓BKM數據：片內±0.92%，片間±1.10%。B.面板均勻性：8/12寸...

中科院化學所X雷博科儀喜相較于旋涂法，刮涂法制備的鈣鈦礦薄膜通常形貌較差，影響太陽能模塊（PSM）的效率和穩定性。為此，中科院化學所團隊在鈣鈦礦前驅體中引入聚合物添加劑，定制橢圓膠體結構（在實驗中使用了雷博科儀的PF200原位刮涂設備），成果發表于《AdvancedMaterials》。01supportinginformationPF200(原位刮涂)設備：一種可以用于同步輻射原位觀測平臺的微型涂膜器，推桿可吸附硅片或其他形式刀頭進行涂膜，涂膜高度可調。02研究內容a)鈣鈦...

等離子清洗機的清潔效果檢測，核心是驗證表面污染物去除程度以及表面活性提升效果，常用方法可分為物理檢測法和化學檢測法兩類，操作簡單且實用性強，具體步驟如下：一、物理檢測法(直觀判斷，快速上手)1.接觸角測量法這是檢測表面親水性/疏水性變化的核心方法，等離子清洗會去除表面油污、增加活性基團，讓接觸角顯著降低。準備工具：接觸角測量儀、去離子水(或指定測試液)。操作步驟：清洗前：取待測樣品，滴1~2μL去離子水在表面，用儀器測量接觸角并記錄數值。清洗后：用同樣方法在樣品同一區域(或相...

一、概述與行業背景1.1磁控濺射的地位磁控濺射(MagnetronSputtering)是物理氣相沉積（PVD）技術中常用且高效的薄膜制備方法之一。它利用磁場約束等離子體中的電子，提高氣體離化率，從而在較低氣壓和基板溫度下實現高速、均勻的薄膜沉積。隨著半導體、顯示面板、新能源、表面工程等領域對薄膜性能(厚度均勻性、成分可控性、附著力、致密性)的要求不斷提升，磁控濺射設備已成為制造核心裝備。1.2行業發展趨勢半導體先進制程：金屬互連層、阻擋層、介質層等對薄膜均勻性和純度要求高。...