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蒸發(fā)鍍膜技術(shù)是一種廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)和工業(yè)生產(chǎn)中的表面處理技術(shù)。它通過物質(zhì)的蒸發(fā)和沉積過程，在基材表面形成薄膜，從而改變或改善材料的物理、化學(xué)和光學(xué)性質(zhì)。本文將詳細(xì)探討蒸發(fā)鍍膜設(shè)備的工作原理、主要組成部分以及其在各個(gè)領(lǐng)域的應(yīng)用。一、工作原理蒸發(fā)鍍膜是利用熱能或其他形式的能量將固態(tài)材料加熱至蒸發(fā)狀態(tài)，使其轉(zhuǎn)化為氣態(tài)，再在冷卻的基材表面凝結(jié)，形成薄膜的過程。該過程一般可以分為以下幾個(gè)步驟：1、材料加熱：在蒸發(fā)鍍膜設(shè)備中，待鍍材料(通常為金屬或合金)被加熱到其熔點(diǎn)以上，從而發(fā)生蒸發(fā)...

在現(xiàn)代制造業(yè)中，鍍膜技術(shù)作為一種重要的表面處理方法，被廣泛應(yīng)用于電子、光學(xué)、汽車、航空航天等多個(gè)領(lǐng)域。隨著科技的發(fā)展和市場需求的不斷變化，多功能鍍膜設(shè)備逐漸成為提升生產(chǎn)效率的重要工具。一、工作原理多功能鍍膜設(shè)備是指集成了多種鍍膜技術(shù)于一體的設(shè)備，能夠?qū)崿F(xiàn)不同種類的涂層沉積。通常采用物理氣相沉積(PVD)和化學(xué)氣相沉積(CVD)等技術(shù)。其工作原理能夠總結(jié)為以下幾個(gè)方面：1、氣相沉積：無論是PVD還是CVD，鍍膜過程均是在真空或低壓環(huán)境下進(jìn)行的，通過將目標(biāo)材料轉(zhuǎn)變?yōu)闅鈶B(tài)，然后再沉...

雷博科儀熱烈祝賀武漢大學(xué)柯維俊&方國家教授團(tuán)隊(duì)使用我司多款薄膜制備產(chǎn)品在鈣鈦礦太陽能電池領(lǐng)域取得重要突破科研同款在本次研究中，武漢大學(xué)柯維俊&方國家教授團(tuán)隊(duì)使用了我司生產(chǎn)的AC200-SE勻膠機(jī).pdf、MS450鍍膜機(jī).pdf、PF200-H鈣鈦礦專用涂膜機(jī).pdf、PT13M-SE等離子清洗機(jī).pdf。研究背景全鈣鈦礦疊層太陽能電池（TSCs）雖具備優(yōu)秀性能，但小面積與大面積（1cm2）器件間的效率差距嚴(yán)重阻礙其商業(yè)化進(jìn)程。研究亮點(diǎn)晶體修飾劑創(chuàng)新：吡拉西坦通過雙重作用機(jī)制...

傳統(tǒng)設(shè)備在高速旋轉(zhuǎn)涂布時(shí)，容易出現(xiàn)膜厚不均、熱烘溫度波動(dòng)大等問題。雷博科儀勻膠機(jī)腔體采用特殊設(shè)計(jì)，在納米壓印工藝上能夠保持優(yōu)異的均勻性：A.勻膠均勻性：8寸晶圓，BKM數(shù)據(jù)可達(dá)±1.1%。4寸晶圓BKM數(shù)據(jù)：片內(nèi)±0.49%，片間±0.55%。6寸晶圓BKM數(shù)據(jù)：片內(nèi)±0.76%，片間±0.91%。8寸晶圓BKM數(shù)據(jù)：片內(nèi)±0.92%，片間±1.10%。B.面板均勻性：8/12寸...

中科院化學(xué)所X雷博科儀喜相較于旋涂法，刮涂法制備的鈣鈦礦薄膜通常形貌較差，影響太陽能模塊（PSM）的效率和穩(wěn)定性。為此，中科院化學(xué)所團(tuán)隊(duì)在鈣鈦礦前驅(qū)體中引入聚合物添加劑，定制橢圓膠體結(jié)構(gòu)（在實(shí)驗(yàn)中使用了雷博科儀的PF200原位刮涂設(shè)備），成果發(fā)表于《AdvancedMaterials》。01supportinginformationPF200(原位刮涂)設(shè)備：一種可以用于同步輻射原位觀測平臺的微型涂膜器，推桿可吸附硅片或其他形式刀頭進(jìn)行涂膜，涂膜高度可調(diào)。02研究內(nèi)容a)鈣鈦...

等離子清洗機(jī)的清潔效果檢測，核心是驗(yàn)證表面污染物去除程度以及表面活性提升效果，常用方法可分為物理檢測法和化學(xué)檢測法兩類，操作簡單且實(shí)用性強(qiáng)，具體步驟如下：一、物理檢測法(直觀判斷，快速上手)1.接觸角測量法這是檢測表面親水性/疏水性變化的核心方法，等離子清洗會去除表面油污、增加活性基團(tuán)，讓接觸角顯著降低。準(zhǔn)備工具：接觸角測量儀、去離子水(或指定測試液)。操作步驟：清洗前：取待測樣品，滴1~2μL去離子水在表面，用儀器測量接觸角并記錄數(shù)值。清洗后：用同樣方法在樣品同一區(qū)域(或相...

一、概述與行業(yè)背景1.1磁控濺射的地位磁控濺射(MagnetronSputtering)是物理氣相沉積（PVD）技術(shù)中常用且高效的薄膜制備方法之一。它利用磁場約束等離子體中的電子，提高氣體離化率，從而在較低氣壓和基板溫度下實(shí)現(xiàn)高速、均勻的薄膜沉積。隨著半導(dǎo)體、顯示面板、新能源、表面工程等領(lǐng)域?qū)Ρ∧ば阅?厚度均勻性、成分可控性、附著力、致密性)的要求不斷提升，磁控濺射設(shè)備已成為制造核心裝備。1.2行業(yè)發(fā)展趨勢半導(dǎo)體先進(jìn)制程：金屬互連層、阻擋層、介質(zhì)層等對薄膜均勻性和純度要求高。...